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应用介绍
应用介绍
Applications Introduction
光固化技术--光固化成膜的材料
光是具有特定频率(波长)的电磁辐射,具有能量。利用光的能量,诱导具有化学活性的液体化学物质(光引发剂、树脂、单体)通过快速聚合交联,瞬间实现固态材料的过程称为光固化技术。与热固化方法相比,光固化具有固化速度快、无需加热、较少使用溶剂、高效节能、固化过程可自动化操作等优点,光固化被称为21世纪的绿色技术。光固化材料已广泛应用于欧易博日常生活的方方面面,如涂料、油墨、印刷、光学透镜、微电子器件、光盘、光纤等领域,并形成了全球120亿美元的应用市场。

光刻技术---精密图形转移,光刻胶是光成像的材料
光刻技术也是利用光的能量,通过控制光照的区域使具有化学活性的液体化学物质快速发生光化学反应,并通过实现选择性的腐蚀得到图形的技术。为了实现选择性的腐蚀,需要使用溶解性、熔融性或亲合性在曝光后发生明显的变化的材料。这类材料称为光刻胶。光刻胶具有光化学敏感性,可利用其进行光化学反应,经曝光、显影等过程,将所需要的微细图形从掩模版转移至待加工的衬底上,然后进行蚀刻等工艺加工。光刻胶是微制造领域最为重要的材料,1959年被发明以来,就成为半导体工业最核心的工艺材料。光刻胶在随后的发展中被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作,是微细加工技术的关键性材料。  



光刻胶的组分
  光固化材料、光刻胶虽然都是由光引发剂(或光敏剂)、树脂、单体(或活性稀释剂)三种主要化学品原料和其他助剂组成的,但光刻胶需要使用专用的化学品原料。光刻胶是成像材料,和光固化材料相比,用途不同,使用的曝光光源和光能不同,反应机理不完全相同,对于材料的溶解性、耐蚀刻性、感光性能、耐热性等要求不同,各类光刻胶使用的光引发剂、树脂、单体等原料需要化学结构不同、性能各异的专用化学品。而且光刻胶用于加工制作非常精细的图形线路,对原材料的纯度、杂质、金属离子含量等有非常高的要求。光刻胶种类非常多,根据其化学反应机理和显影原理,可分负性胶和正性胶两类。基于光刻胶的化学结构,可以分为三种类型:光聚合型、光分解型、光交联型。光刻胶经过几十年不断的发展和进步,应用领域不断扩大,衍生出非常多的种类,不同用途的光刻胶曝光光源、反应机理、制造工艺、成膜特性、加工图形线路的精度等要求性能不同,对于原材料的性能要求也不一样。因此每一类光刻胶使用的原料在化学结构、性能上都比较特殊,要求不同品质等级的专用化学品。

公司生产的光刻胶专用化学品简单介绍如下:
  光引发剂是一种能吸收光能(辐射能),经激发产生化学变化生成活性中间体,并进一步引发聚合的物质,是光刻胶的关键组分,对光刻胶的感光度、分辨率等起决定性作用。光引发剂因产生的活性中间体不同,可分为自由基型光引发剂和阳离子型光引发剂。光刻胶中用到的自由基型光引发剂较多,要求光引发剂对曝光光源波长的吸收率高,和光刻胶树脂的相容性好,或者和颜料、染料的匹配性好等。
  光增感剂是引发助剂,是指能吸收光能将能量转移给光引发剂或本身不吸收光能但协同参与光化学反应提高引发效率的物质。由于曝光光源的变化,光刻胶需要用到光增感剂的配方较多。
  光产酸剂是指类似于阳离子光引发剂,但阳离子部分不含金属、磷等元素,在吸收光能后分子发生光解反应,产生强酸引发反应的物质,用于最尖端的化学增幅光刻胶。
  树脂是光刻胶中比例最大的组分,构成光刻胶的基本骨架,主要决定曝光后光刻胶的基本性能,包括硬度、柔韧性、附着力、曝光前和曝光后对特定溶剂的溶解度产生变化、光学性能、耐老化性、耐蚀刻、热稳定性等。

 
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